超純水設(shè)備顧名思義主要應(yīng)用在墨水生產(chǎn)中，為了保證墨水的純度，提高墨水質(zhì)量，需要使用電阻率在16兆歐以上的水進(jìn)行配置，而超純水設(shè)備采用的反滲透和EDI技術(shù)，設(shè)備的出水電阻率達(dá)到18兆歐以上，完全滿足水。
超純水設(shè)備
超純水設(shè)備
二、超純水設(shè)備典型工藝流程
1、預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點(diǎn)
2、預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透(正電荷反滲透膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
3、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
4、預(yù)處理-紫外線殺菌裝置-一級(jí)RO裝置-二級(jí)RO裝置-中間水箱-EDI裝置-脫氧裝置-氮封純水箱-除TOCUV裝置-拋光混床-超濾裝置-用水點(diǎn)
超純水設(shè)備圖片
超純水設(shè)備圖片
三、超純水設(shè)備特點(diǎn)
數(shù)字化液晶水質(zhì)顯示，全自動(dòng)化制水，停水或水壓不夠，系統(tǒng)自動(dòng)斷電保護(hù)同時(shí)視聽(tīng)報(bào)警，多重安全保護(hù)。
微電腦智能控制系統(tǒng)，RO膜防垢程序及完善的自動(dòng)清洗消毒程序。
全自動(dòng)化無(wú)人值守設(shè)計(jì)：缺水停水時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)停機(jī)保護(hù)，水壓恢復(fù)正常時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)恢復(fù)制水狀態(tài);純水備用時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)停機(jī)，當(dāng)取用一定純水時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)恢復(fù)制水狀態(tài)。
化指示：電源指示，系統(tǒng)自檢指示，泵浦啟動(dòng)指示，RO自動(dòng)沖洗指示，缺水保護(hù)指示，缺水報(bào)警指示，純水備用指示。

選用反滲透設(shè)備時(shí)需要考慮哪些因素
1、需要搞清楚處理的水源：如是自來(lái)水、中水、河水、地下水，需要根據(jù)不同的水源選取不同的預(yù)處理過(guò)濾設(shè)備。
2、需要搞清楚處理后的水質(zhì)要求，反滲透設(shè)備可以達(dá)到小于10us的純水，如果需要達(dá)到1us的設(shè)備，反滲透的精度就不夠高了，還需要加多一組過(guò)濾。
3、需要解決濃水排放的問(wèn)題，濃水一般可用于一些產(chǎn)品的前處理清洗或一些雜用水。
4、需要解決廠地問(wèn)題，反滲透設(shè)備需要一定的廠地?cái)[放，根據(jù)設(shè)備大小的不同，場(chǎng)地大小也不相同。
反滲透設(shè)備流程圖如下：
我公司投資研發(fā)建設(shè)的水處理設(shè)備遠(yuǎn)程服務(wù)系統(tǒng)可以根據(jù)用戶的需求遠(yuǎn)程水處理設(shè)備的運(yùn)行數(shù)據(jù)，預(yù)測(cè)、提前發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)中的故障點(diǎn)，做到早發(fā)現(xiàn)、早排除、使水處理設(shè)備平穩(wěn)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)了科技與人力、固定與移動(dòng)、視頻圖像與數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)的有機(jī)結(jié)合。
1.本系統(tǒng)是格瑞水務(wù)電控部與天津大學(xué)自動(dòng)化學(xué)院歷時(shí)2年共同研發(fā)的遠(yuǎn)程服務(wù)系統(tǒng)
2.我公司運(yùn)營(yíng)服務(wù)部人員值班，在我公司可通過(guò)網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程查看貴公司設(shè)備所有運(yùn)行數(shù)據(jù)，發(fā)現(xiàn)異常后及時(shí)與客戶聯(lián)系
3.遇到疑難問(wèn)題我公司運(yùn)營(yíng)服務(wù)部組織團(tuán)隊(duì)共同出具解決方案，必要時(shí)現(xiàn)場(chǎng)解決問(wèn)題
4.“把問(wèn)題消滅在萌芽狀態(tài)”是我們的宗旨。
我公司水處理設(shè)備遠(yuǎn)程服務(wù)系統(tǒng)的投入使用，為我公司的服務(wù)提檔升級(jí)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，這樣我公司設(shè)計(jì)制作的反滲透設(shè)備、超濾設(shè)備、軟化水設(shè)備、污水及中水回用設(shè)備、濃水回收設(shè)備等水處理設(shè)備將更好的服務(wù)于用戶。

1.電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 
光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學(xué)試劑 
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點(diǎn)： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護(hù)簡(jiǎn)易

反滲透設(shè)備是目前水處理行業(yè)中技術(shù)、應(yīng)用為可靠的除鹽設(shè)備。反滲透設(shè)備的工作原理是對(duì)需要處理的原水溶液施加一個(gè)大于滲透壓的壓力，使水透過(guò)特制的半透膜，從溶液中分離出來(lái)，水分子透過(guò)反滲透膜成為純水，水中的雜質(zhì)被反滲透膜截留并被濃水帶出。因?yàn)檫@個(gè)過(guò)程和滲透現(xiàn)象相反，所以稱為反滲透。按各種物料的不同滲透壓，就可以對(duì)某種溶液使用大于滲透壓的反滲透方法，達(dá)到對(duì)溶液進(jìn)行分離、提取、純化和濃縮的目的，它能去除濾液中的離子范圍和分子量很小的有機(jī)物，如、、熱源等。
反滲透設(shè)備特點(diǎn)
1、脫鹽率高達(dá)97%以上，水回收率高達(dá)75%。
2、運(yùn)行費(fèi)用低，故障率低。
3、具有連續(xù)制水功能。
4、反滲透設(shè)備通過(guò)PLC程序可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)運(yùn)行。
5、反滲透設(shè)備操作簡(jiǎn)單、運(yùn)行平穩(wěn)、能耗低、無(wú)污染、使用壽命長(zhǎng)。
反滲透設(shè)備清洗方法
1、低壓沖洗反滲透設(shè)備
定期對(duì)反滲透設(shè)備進(jìn)行大、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透設(shè)備進(jìn)水SDI突然升高超過(guò)5.5以上時(shí)，應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開(kāi)機(jī)。
2、反滲透設(shè)備停運(yùn)保護(hù)
由于生產(chǎn)的波動(dòng)，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，短期或長(zhǎng)期停用時(shí)必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。
短期保存適用于停運(yùn)15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來(lái)保護(hù)反滲透設(shè)備。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時(shí)，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì)，有大量繁殖。因此，建議水溫高于20℃時(shí)，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時(shí)，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門。
長(zhǎng)期停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時(shí)必須用保護(hù)液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為10(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
3、反滲透膜化學(xué)清洗
在正常運(yùn)行條件下，反滲透膜也可能被無(wú)機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對(duì)膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。
一般3～12個(gè)月清洗一次，如果每個(gè)月不得不清洗一次，這說(shuō)明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運(yùn)行參數(shù)。如果1～3個(gè)月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平，是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。
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