純凈水設(shè)備一般都是生產(chǎn)生活用水的，作為生活用水在要求方面肯定要嚴格很多，那么純凈水設(shè)備在使用之前需要先考慮3個方面。
1、自備一套余氯比色測定計。
目前所運用的純凈水設(shè)備的膜多為低壓的聚酰胺膜，該膜在運用中不耐氯，尤其在重金屬離子的效果下，易氧化形成損。自來水多含重金屬離子，在活性炭失效后，極易損膜。自來水余氯和有機物的含量是改變的，僅僅靠核算和估量是不行的，活性炭的失效要以測驗為準，這樣既可防止過早替換的糟蹋和過遲替換引起的膜損。該比色計的價格便宜，操作也方便?？稍诤怂愕奶鎿Q期前10d開端每天測定。
2、當?shù)刈詠硭乃|(zhì)陳述是必不可少的，盡管國內(nèi)有一個自來水規(guī)范，但各地的自來水是不同的。
能夠從自來水公司獲得近期的水質(zhì)陳述，在購買純凈水設(shè)備時提供給設(shè)備廠商，由廠商依據(jù)水質(zhì)陳述中的余氯核算斷定活性炭的大致替換周期，依據(jù)水質(zhì)陳述中的鈣、鎂等離子的濃度核算斷定回收率的規(guī)模、可能的污染及清洗的方法。
3、裝置純凈水設(shè)備時應預留清洗和保養(yǎng)的進出口。
因為一體化設(shè)備無阻垢劑投加體系，結(jié)垢是不免的，加上運轉(zhuǎn)中可能會呈現(xiàn)微生物和膠體等污染，因此清洗是有必要的。在冬天或長時間不運轉(zhuǎn)時保養(yǎng)、消毒也是必要的。在一體化設(shè)備的進口端接上三通及閥門后別離接原水和清洗水箱。在清洗和保養(yǎng)時要取出活性炭。

詳情介紹：
一、設(shè)備概述：
超純水處理設(shè)備
超純水應用領(lǐng)域：在制藥和某些行業(yè)常需要純凈的蒸餾水，但傳統(tǒng)蒸餾法制取蒸餾水存在能耗高、不穩(wěn)定、不環(huán)保的缺陷，漸漸退出歷史的舞臺。取而代之的環(huán)保的CEDI技術(shù)。
水處理混床系統(tǒng)
一般處理工藝：反滲透+EDI+混床工藝替代傳統(tǒng)純蒸餾方法已經(jīng)成為當今世界用水生產(chǎn)技術(shù)的主流。近年來代表制藥用水制備工藝技術(shù)水平的連續(xù)電去離子技術(shù)(Continuous Electrodeionization CEDI)的出現(xiàn)，促使用水制備工藝摒棄伴生廢酸、廢堿污染的傳統(tǒng)離子交換技術(shù)，令系統(tǒng)實現(xiàn)全自動計算機控制，連續(xù)生產(chǎn)，安全無污染。
反滲透純凈水設(shè)備--低成本、高質(zhì)量。
二、EDI簡介：
EDI即連續(xù)除鹽技術(shù)（EDI，Electro deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被去除的過程。這一過程中離子交換樹脂是被電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出電阻率達17 MΩ·cm的超純水。
三、工作原理：
在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個EDI單元。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽離子分別在電場作用下向正負極遷移，并透過陰陽離子交換膜進入濃水室，同時給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由于離子電遷移而留下的空位。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除根水。帶負電荷的陰離子（例如OH-、Cl-）被正極（+）吸引而通過陰離子交換膜，進入到鄰近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到鄰近的陽離子交換膜，而陽離子交換不允許其通過，這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽離子（例如Na+ 、H+）以類式的方式被阻隔在濃水中。在濃水中，透過陰陽膜的離子維持電中性。
四、應用領(lǐng)域：
超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)等。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、發(fā)電廠的鍋爐補給水，以及其它應用超純水。

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超純水設(shè)備主要用途：
　超純水設(shè)備主要用于微電子產(chǎn)品生產(chǎn)用高純水，半導體、顯象管制造業(yè)用超純水，集成電路板生產(chǎn)清洗用超純水，蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產(chǎn)用純水，高純水，超純水的制備。
超純水設(shè)備概述：
    超純水設(shè)備主要在半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
超純水設(shè)備特點：
   超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。

系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器，活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子，還可進行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使耗氧量（COD）由15mg/L(O2)降至2～7mg/L(O2)，此外，由于吸附作用使表面被吸附復制的濃度增加，因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及農(nóng)污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物。同時，設(shè)備具有自我維護系統(tǒng)，運行費用很低。
超濾(UltraFiltration ,簡稱UF) 是溶液在壓力作用下,溶劑與部分低分子量溶質(zhì)穿過膜上微孔到達膜的另一側(cè),而高分子溶質(zhì)或其它乳化膠束團被截留,實現(xiàn)從溶液中分離的目的。它的分離機理主要是靠物理的篩分作用。超濾分離時是在對料液施加一定壓力后，高分子物質(zhì)、膠體物質(zhì)因膜表面及微孔的一次吸附，在孔內(nèi)被阻塞而截留及膜表面的機械篩分作用等三種方式被超濾膜阻止，而水和低分子物質(zhì)通過膜。礦泉水、誰泉水設(shè)備可利用超濾裝置有效除水中的膠體、化學有機物、重金屬、等大分子有機物，保留水中有益微量元素。
礦泉水設(shè)備是以膜兩側(cè)壓力差為動力，以機械篩分原理為基礎(chǔ)的一種溶液分離 ，使用壓力通常為0.2MPa--0.6MPa,分離孔徑1nm--0.1μm,可廣泛應用于物質(zhì)的分離、 濃縮、提純。超濾過程無相轉(zhuǎn)化，常溫操作，對熱敏性物質(zhì)的分離尤為適宜，并具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能，能在60℃ 以下，PH為2-11的條件下長期連續(xù)使用。
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